Российская компания создала первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм

Вчера, 22 марта, информационное издание «ТАСС» со ссылкой на Telegram-канал мэра Москвы Сергея Собянина сообщило, что российская компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» выпустила первый в России фотолитограф — с разрешением 350 нм. 

«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — цитата из официального сообщения.