© tass.ru
МОСКВА, 22 марта. /ТАСС/. Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Об этом сообщил в Telegram-канале мэр Москвы.
«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства» — говориться в сообщении.
Заголовки